高壓反應器暨動態化學吸附分析儀
ICCS
觸媒原位分析系統
ICCS-in situ Catalyst Characterization System為micromeritic推出的新一代觸媒原位分析系統，它在現有反應系統的基礎上增加了兩項關鍵的分析技術--程式升溫分析（TPx）和脈衝化學吸附，此外還可以經由選配功能進行物理吸附。操作者可使用ICCS在新鮮觸媒上進行這些重要的分析，且無需再從反應器中取出觸媒而進行重複性測試。對同一個樣品既可進行反應研究，又可同時獲得TPx和脈衝化學吸附的資料，實現了對觸媒的原位分析理想。
技術及特點
將觸媒裝入ICCS的反應器系統中，接下來可選擇TPx方法分析觸媒。在TPx分析中，程式升溫還原（TPR）常用於負載型金屬觸媒，程式升溫脫附（TPD）常用於酸鹼型觸媒。在TPx之後通常進行脈衝化學吸附，以確定觸媒活性位點的數量。通過TPx和脈衝滴定可以獲得新鮮觸媒在典型反應條件下（特別是在高壓下）的資訊。
長時間使用後的觸媒可以採用與新鮮觸媒相同的條件進行相同的TPx和脈衝化學吸附分析。藉此可比較反應前後觸媒的關鍵特性，如活性位點數目。
特點
▪ 兩個高精度的質量流量計(MFC)可以精確、全自動地控制氣體流量，保證TPx和脈衝化學吸附的精確分析。
▪ 原位測試，可對同一觸媒樣品進行多種分析。
▪ 高精度的熱導檢測器（TCD）可以即時檢測流經樣品管前後的氣體的細微濃度變化。
▪ 具有直觀的軟體和圖形介面，通過觸控式螢幕可進行安全警報、命令、控制參數等一系列操作。
▪控溫區內不銹鋼管線提供了惰性和穩定的運行環境，避免管路中氣體冷凝。兩個內部溫度控制區可以獨立運行。
▪ 內置可控溫的冷阱(Cold trap),用於去除冷凝物（如氧化物還原過程中產生的水）。
▪ 超小的內部管路體積，可最大程度地減少峰展寬並顯著提高峰解析度。
▪防腐蝕檢測器燈絲，可相容TPx和脈衝化學吸附中常用氣體。
▪ 互動式峰編輯軟體使使用者能快速方便地評估結果，編輯峰並得到報告。只需要簡單的指向和點擊就可調整峰邊界。
分析能力
ICCS能夠進行一系列化學吸附和程式升溫反應的原位分析，可量化觸媒及載體的各項關鍵屬性，便於研究觸媒活性、選擇性、去活性、中毒和再生的過程。
脈衝化學可獲得以下的樣品資訊：
金屬表面積
金屬分散度
平均金屬顆粒粒徑
活性位點數目
TPx可獲得以下的樣品資訊：
程式升溫氧化，TPO
程式升溫脫附，TPD
程序升溫還原，TPR
分析物理吸附可獲得樣品的比表面積（選配）。
規格
