ICCS



觸媒原位分析系統

ICCS-in situ Catalyst Characterization Systemmicromeritic推出的新一代觸媒原位分析系統,它在現有反應系統的基礎上增加了兩項關鍵的分析技術--程式升溫分析(TPx)和脈衝化學吸附,此外還可以經由選配功能進行物理吸附。操作者可使用ICCS在新鮮觸媒上進行這些重要的分析,且無需再從反應器中取出觸媒而進行重複性測試。對同一個樣品既可進行反應研究,又可同時獲得TPx和脈衝化學吸附的資料,實現了對觸媒的原位分析理想。


技術

將觸媒裝入ICCS的反應器系統中,接下來可選擇TPx方法分析觸媒。在TPx分析中,程式升溫還原(TPR)常用於負載型金屬觸媒,程式升溫脫附(TPD)常用於酸鹼型觸媒。在TPx之後通常進行脈衝化學吸附,以確定觸媒活性位點的數量。通過TPx和脈衝滴定可以獲得新鮮觸媒在典型反應條件下(特別是在高壓下)的資訊。

長時間使用後的觸媒可以採用與新鮮觸媒相同的條件進行相同的TPx和脈衝化學吸附分析。藉此可比較反應前後觸媒的關鍵特性,如活性位點數目。


特點

兩個高精度的質量流量計(MFC)可以精確、全自動地控制氣體流量,保證TPx和脈衝化學吸附的精確分析。

原位測試,可對同一觸媒樣品進行多種分析

高精度的熱導檢測器(TCD)可以即時檢測流經樣品管前後的氣體的細微濃度變化。

具有直觀的軟體和圖形介面,通過觸控式螢幕可進行安全警報、命令、控制參數等一系列操作。

控溫區內不銹鋼管線提供了惰性和穩定的運行環境,避免管路中氣體冷凝。兩個內部溫度控制區可以獨立運行。

 內置可控溫的冷阱(Cold trap),用於去除冷凝物(如氧化物還原過程中產生的水)。

 超小的內部管路體積,可最大程度地減少峰展寬並顯著提高峰解析度。

防腐蝕檢測器燈絲,可相容TPx和脈衝化學吸附中常用氣體。

互動式峰編輯軟體使使用者能快速方便地評估結果,編輯峰並得到報告。只需要簡單的指向和點擊就可調整峰邊界。


分析能力

ICCS能夠進行一系列化學吸附和程式升溫反應的原位分析,可量化觸媒及載體的各項關鍵屬性,便於研究觸媒活性、選擇性、去活性、中毒和再生的過程。

脈衝化學可獲得以下的樣品資訊:

金屬表面積

金屬分散度

平均金屬顆粒粒徑

活性位點數目

TPx可獲得以下的樣品資訊:

程式升溫氧化,TPO

程式升溫脫附,TPD

程序升溫還原,TPR

分析物理吸附可獲得樣品的比表面積(選配)。


規格